二次離子質譜儀原理的基本特徵介紹

 　　二次離子質譜儀是利用高能離子束轟擊樣品產生二次離子的質譜儀◕·。主要包括一次離子源✘₪✘✘、進樣室✘₪✘✘、質量分析儀✘₪✘✘、真空系統✘₪✘✘、資料處理系統等部分│↟，絕緣樣品還配有電荷補償電子中和槍│↟，根據分析目的不同│↟，還有不同的離子源│↟，如氣體放源（O,Ar,Xe)│↟，表面電離源（如Cs)│↟，熱隙源如C60│↟，以及液態金屬和團簇源（Bin,Aun,Ga）等◕·。二次離子質譜儀原理的基本特徵如下▩•·▩：