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  • TOF-qSIMS飛行時間二次離子質譜儀
    Hiden TOF-qSIMS 飛行時間二次離子質譜工作站設計用於多種材料的表面分析和深度剖析應用│◕↟,包括聚合物│◕↟,藥物│◕↟,超導體│◕↟,半導體│◕↟,合金│◕↟,光學和功能塗層以及電介質│◕↟,檢測限低於1ppm╃◕☁。$nTOF-qSIMS Workstation 包含了四極杆質譜和飛行時間質譜╃◕☁。
    時間₪│◕·:2022-07-27型號₪│◕·:TOF-qSIMS瀏覽量₪│◕·:3137
  • SIMS Workstation二次離子質譜儀
    二次離子質譜儀適合做多層薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式掃描│◕↟,自動測量正│╃、負和中性粒子╃◕☁。
    時間₪│◕·:2022-07-27型號₪│◕·:SIMS Workstation瀏覽量₪│◕·:881
  • MAXIM濺射中性粒子質譜儀
    MAXIM 二次離子濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰│╃、陽離子動態和中性粒子│◕↟,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面│◕↟,應用於SIMS和SNMS的光學取樣╃◕☁。 ·光柵控制│◕↟,增強深度分析能力 ·所有能量範圍內│◕↟,離子行程的小擾動│◕↟,及恆定離子傳輸 ·靈敏度高 / 穩定的脈衝離子計數檢測器
    時間₪│◕·:2021-09-03型號₪│◕·:MAXIM瀏覽量₪│◕·:578
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