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過程氣體分析儀

簡要描述▩·☁▩↟:HPR-30過程氣體分析儀(Process Gas Analyser)│↟│☁,適用於監測分析殘餘氣體和真空過程·✘│╃。可檢測反應室記憶體在的所有成分│↟│☁,以及系統析出的新組分·✘│╃。

  • 產品型號▩·☁▩↟:HPR-30
  • 廠商性質▩·☁▩↟:代理商
  • 更新時間▩·☁▩↟:2022-11-08
  • 訪  問  量▩·☁▩↟:1838
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詳細介紹
品牌其他品牌產地類別進口
應用領域綜合

HPR-30過程氣體分析儀應用▩·☁▩↟:

· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空塗覆/ 等離子蝕刻
· 濺射沉積
· 汙染物研究
· 基本壓力辨別
· 洩漏探測/ 實質上的洩漏/脫附分析
· 除氣/烘烤/泵效能
· 反應室/過程氣體汙染物

HPR-30過程氣體分析儀特點▩·☁▩↟:

· 簡潔的桌上型│↟│☁,移動推車或控制檯架結構
· Direct re-entrant流孔板│↟│☁,差式泵│↟│☁,以達到z適宜的靈敏度
· 連續取樣從1mbar至 10-4mbar.
· 高靈敏度(至5ppb)│↟│☁,質量數至1000amu
· 軟離子化技術│↟│☁,分析複雜有機物│↟│☁,或表觀MS研究
· 穩定性好(24h之上│↟│☁,峰高變化小於±0.5%)
· MASsoft軟體控制│↟│☁,或由區域網進行多個系統控制
· 氣動閥自動控制;出現電力不足或壓力過大等不安全狀況時可啟用手動隔離裝置
· 自動◕│↟、同時資料取得◕│↟、分析│↟│☁,實時顯示◕│↟、報警·✘│╃。

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